연구개발 방향

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Top Class Grower manufacturer in Korea PV & Semiconductor

연구개발

세계 최고의 반도체 장비회사로서의 자부심을 가지고 더 큰 꿈을 키워 나갑니다.


연구개발


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R&D direction

반도체 장비분야 연구

01

제품 Productivity & Quality 향상 기술

  • Up-time yield & Throughput 극대화
  • In-line Process Monitoring 시스템
  • 고정밀제어 시스템
  • Process Yield 향상

02

Pull Automation
& Safety Environment

  • 무인운전시스템
  • 공정모니터링 & 원격제어시스템
  • 예지보전 및 안전사양 표준화 시스템
  • 설비와 연동 운영이 가능한 AGV 시스템
R&D direction

차세대 사업분야 연구

[ SiC β powder ]

[ SiC α powder ]

고순도 SiC Powder 제조기술 연구

  • Carbothermal reduction 방법을 이용한 고순도 SiC 분말 제조(LG 이노텍 기술 이전, 2021년)
  • 저원가 & 고품질 기반의 "SiO2 + C source" 합성 기술 개발
  • SiC 단결정 성장로를 통한 SiC Powder vs. SiC 결정의 연계 품질 연구
  • 양산형 Turn-key 라인 개발 (혼합 - 합성 - 입성장 - 분급)

제품 사양

Typical Chemical Analysis

목록
Element Unit Spec. Real Value
AI ppm <1 0.36
B <1 0.66
Ca <1 0.53
Co <0.2 <0.01
Cr <0.2 0.15
Fe <0.2 <0.05
Mg <0.2 <0.05
Na <0.2 0.05
Ni <0.2 <0.01
Ti <1 0.88
W <0.2 <0.05
V <0.5 0.37

Other Properties

목록
Characteristics Unit Spec. Real Value
Particle size(D) 230±30 232
Span(D / D) - <4 2.6
Tot. Nitrogen ppm >200 16
Tot. Oxygen ppm >200 200
Apparent Density g/cm3 >1.7 1.77
Tapping Density g/cm3 >1.9 1.98

그누보드5
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